钛目标

钛靶是物理气相沉积（PVD）溅射工艺中使用的关键原材料。高能粒子轰击其表面,溅射钛原子或离子,在基材上形成高纯度、高性能的钛或钛化合物薄膜。

▸核心功能和技术规格:
1.超高纯度: 这些靶材的纯度等级从 99.99% (4N）到 99.9999% (6N）不等,可满足各种应用的严格杂质要求,并确保优异的导电性、耐腐蚀性和生物相容性。
2.可定制的尺寸和重量: 支持完全定制的生产。可以设计和制造最大尺寸和重量,以满足特定的客户设备室、工艺要求和溅射功率,提供最大的工艺灵活性。
3.专业包装: 这些高价值、高精度目标被安全地包装在木箱或托盘中,在运输和储存过程中免受损坏、污染和变形,符合工业运输标准。

▸核心应用领域:
1.LCD显示器（液晶显示器）: 用于在薄膜晶体管（TFT）阵列中沉积电极（例如栅极、源极/漏极）或势垒层,这对于显示性能和产量至关重要。
2.医疗器械和植入物: 用于在人工关节、骨螺钉、牙种植体、心血管支架等医疗器械表面沉积高纯度钛或氮化钛薄膜,显著提高产品的生物相容性、耐磨性、耐腐蚀性和骨整合性。